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관련 소재 공정 장비

Mini CVD

열처리·화학기상증착(CVD)용 장치

Mini CVD
01 / 제품 개요

제품 개요

열처리·화학기상증착(CVD)용 장치

모델·옵션별 적용 범위는 문의 시 확인해 주세요.

02 / 제품 특징

제품 특징

  • 01TLP1008 시리즈는 최대 1100 °C의 정밀 가열용 소형 분할형 튜브 퍼니스입니다. 화학기상증착(CVD)과 관련 실험의 열 공정 제어를 지원합니다.
03 / 주요 사양

주요 사양

Mini CVD의 주요 사양
모델TLP-1008-MF (Mini furnace type)
소비 전력2 kW
입력 전압AC220V
온도1100ºC Max. for < 1hr / 900ºC for continuously heating
가열 구간Total heating zone length: 184mm
균일 온도 구간60mm (+/-1°C) @ 900 °C
가스 제어Flow meter, MFC(*option)
외형 크기465 x 445 x 515 (Open position: 540(H))

사양 값과 단위는 원문 표기를 유지했습니다.

04 / 적용 분야

적용 분야

  • 열처리
  • 화학기상증착(CVD)
05 / 선택 옵션

선택 옵션

진공 게이지
MFC(디지털 표시 장치 포함)
진공 펌프
06 / 이미지·구조도

제품 이미지·구조도

Mini CVD 후면
Mini CVD 후면
Mini CVD 시스템 구성
Mini CVD 시스템 구성

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